超分散透明納米氧化鋯R10在拋光領域的應用

超分散透明納米氧化鋯（VK-R10）技術指標：純度99.9%,粒徑10-20nm,比表面積30-60。

超分散透明納米氧化鋯VK-R10憑借獨特性能，在拋光領域應用廣泛，其核心優(yōu)勢與應用要點如下：

一、突出的透明分散特性

 當VK-R10添加到水或醇中，濃度為1%-5%時，溶液呈透明狀態(tài)，便于觀察混合情況與拋光過程。

 即便濃度提升至20%，其透明度仍能保持在50%以上，在高含量下仍能保證良好的分散性，不影響拋光液的穩(wěn)定性和操作可視性。

二、多領域應用場景

1、光學領域：用于光學鏡片、鏡頭等拋光，能精準去除表面瑕疵，提升透光率和成像質量，操作人員可透過透明拋光液實時把控進度。

2、 電子領域：在半導體芯片拋光中，可實現原子級平坦化，保證拋光均勻性，提高芯片良品率和性能穩(wěn)定性。

3、金屬加工領域：適用于航空航天零部件、精密機械零件等拋光，能去除加工痕跡，提升表面光潔度與機械性能。

三、用量的確定因素

1 被拋光材料：硬度高的材料（如藍寶石）需較高濃度（8%-15%），軟質金屬（如銅、鋁）用量較低（3%-8%）。

2 拋光工藝：追求高拋光速率可適當增加用量，但需避免過量導致表面損傷；要求超高表面光滑度時，可降低用量并延長拋光時間。

3 設備條件：根據拋光設備的轉速、壓力等參數調整用量，高速設備可適當減少用量以保證穩(wěn)定性。

綜上，VK-R10的高透明分散性和靈活的用量適配性，使其成為拋光領域的高效材料，滿足多場景高精度拋光需求。

超分散透明納米氧化鋯（VK-R10）由杭州萬景新材料有限公司采用高純水熱法獨家制備，相較傳統(tǒng)工藝，該方法能精準調控晶體生長，實現粒徑均勻分布與卓越分散性，從根源減少團聚；無需依賴表面活性劑，z大程度保留氧化鋯本征透明度，高添加量下仍能維持光學性能穩(wěn)定；制備過程清潔可控，產品純度達99.9%以上，化學穩(wěn)定性與力學性能更優(yōu)，充分彰顯企業(yè)在納米材料領域的技術深耕。

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